在電子元件制造的高要求領域，我們的電子級超純水機將成為您的得力助手。這款超純水機采用先進的多級過濾技術和離子交換工藝，能夠高效去除水中的顆粒雜質、金屬離子、有機物以及微生物等，為您提供電阻率高達 18.2 MΩ?cm（25℃）的超純水。

 

使用滲源純水制造的的電子級超純水機，您將徹底告別因水質問題而導致的電子元件物理性損傷和化學性干擾。無論是在光刻工藝中配制光刻膠，還是在蝕刻和清洗過程中，超純水都能確保高精度制程的順利進行，有效提升產品的良品率和性能穩定性。

 

 

電阻率：這是衡量純水純度的關鍵指標之一，一般要求電阻率達到 18.25 MΩ?cm（25℃）及以上。電阻率越高，說明水中的導電離子越少，水的純度越高。對于一些對水質要求極高的電子工藝，如集成電路制造，可能要求電阻率更高。

 

總有機碳（TOC）含量：TOC 反映了水中有機物質的含量。電子級純水的 TOC 含量通常要求非常低，一般要小于 10 ppb=1μg/L（十億分之一），而成都滲源純水已經能做到1ppt=1ng/L（萬億分之一）。有機物質可能會在電子元件表面形成碳膜，影響元件的性能和可靠性。

 

顆粒物質：水中的顆粒物質可能會附著在電子元件表面，導致元件短路或其他故障。因此，電子級純水對顆粒物質的含量有嚴格限制。通常要求顆粒尺寸大于 0.1 μm 的顆粒數要極少，每毫升水中的顆粒數可能要求在幾十個以下。

 

微生物含量：微生物的存在會對電子元件的生產和性能產生負面影響。電子級純水的微生物含量要求非常低，一般細菌含量要低于 1 CFU/mL（colony-forming units per milliliter，每毫升形成菌落的單位數）。

 

金屬離子含量：各種金屬離子的存在會影響電子元件的性能和可靠性，特別是對于晶元薄片和超大規模集成電路等高精度電子器件。如：硅、砷、鎵、碲、鎘、鈉、鉀、鐵、銅、等金屬離子的含量都要控制在極低的水平，通常要求每升水中的金屬離子含量在幾微克甚至更低。

 

 

溶解氧含量：溶解氧可能會引起電子元件的氧化，對一些對氧化敏感的電子工藝產生不利影響。因此，電子級純水的溶解氧含量也需要控制在較低水平，具體要求根據不同的電子工藝和生產要求而定。

 

pH 值：純水的 pH 值應接近中性，一般要求在 6.5 - 7.5 之間。pH 值的偏差可能會影響電子元件的清洗效果和化學穩定性。

 

中國的電子級純水標準主要參照 GB/T 11446.1-2013 系列標準 。不同的電子行業領域以及不同的生產工藝環節，對純水的具體要求可能會有所差異，但總體上都需要滿足高純度、低雜質的要求。

 

成都滲源超純水機具有極佳的耐化學特征，能夠抵抗酸、堿、強氧化劑和鹵素的腐蝕，通殺具有良好的機械強度，耐高溫、阻燃性、耐候性與耐老化性。在半導體領域中軟管用作透明管道，在晶元清洗設備中能抵抗化學試劑的腐蝕，確保設備的長期穩定運行，此外其內壁光滑不易集聚污垢和顆粒物，有助于減少污染風險。提高晶元的質量。

 

 

成都滲源一般會使用雙級反滲透后純水儲存于FPR材質的氮封水箱，氮封水箱使用氮氣封閉系統通過向水箱內部充滿高純度的氮氣，其主要作用是防止空氣中的雜質進入水箱，從而保持物質的純度。氮氣能夠有效地隔離外界空氣，防止止水中溶解氧、‌二氧化碳等氣體的溶解和氧化反應，從而保持超純物質的純度和穩定性。‌此外，氮封裝置通常由快速泄放閥及微壓調節閥兩大部分組成，以確保水箱內的壓力穩定，防止因壓力變化導致的物質質量下降。